솔브레인은 고선택비 질화막 식각제(HSN)를 세계 최초로 개발해 올해의 최우수 기술로 선정됐다고 16일 밝혔다.
산업통상자원부의 주최로 열린 이번 시상식은 2020 대한민국 산업기술 연구개발(R&D) 대전과 함께 진행됐다. 기술적 성과가 뛰어나고 국내 산업에 파급효과가 큰 우수 신기술 제품 개발 기업 등을 선정하는 국내 최고 권위의 기술 시상식이다.
고선택비 질화막 식각제 기술은 반도체 제조 공정에서, 실리콘 질화막을 깎아내는 공정에서 필요한 부분만을 남겨놓고 나머지 물질을 제거하는 공정이다. 이에 반도체 제조 효율을 크게 개선 시킨 것으로 평가 받고 있다.
솔브레인은 현재 불산계 식각액, 인산계 식각액 등 반도체 식각액 분야의 세계 시장 점유율 80%를 차지하는 등 독보적인 기술력을 보유하고 있다. 또 국내외 100여건의 특허 출원 및 등록 실적도 갖고 있다.
반도체 전자재료 기업인 솔브레인은 지난해 일본의 수출 규제에 대응 관련, 반도체 기판 불순물 제거에 사용되는 불화수소 대량 생산 능력을 세계 최고 수준으로 끌어 올리며 주목 받은 바 있다.
박영수 솔브레인 중앙연구소장 부사장은 "선진 기술의 국산화를 넘어, 우리 기술의 세계화를 위하여 솔브레인의 연구개발은 계속될 것"이라고 했다.
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