핵심 전략기술 '질화갈륨반도체 소자' 공정 기업에 무상 제공
고성능 질화갈륨반도체는 차세대 반도체의 핵심 소자로, 최신 능동위상배열(AESA) 레이더, 6G통신 등에 적용되는 국가 전략기술이다. 한국전자통신연구원(ETRI)은 4일 본원에서 세계 최고 수준인 150나노(0.15㎛) 질화갈륨(GaN) 마이크로파집적회로(MMIC) 프로세스 설계키트(PDK)를 공개했다. 150나노 질화갈륨반도체는 현재 세계 6개 기관에서만 파운드리 생산이 가능하다. 차세대 전략기술 국산화 성공 질화갈륨반도체는 고출력, 고전압, 고효율의 특성이 있어 함정과 항공기의 레이더 소재로 사용되며, 이는 기존 레이더 대비 압도... [이재형]