KAIST '이차원반도체 선택 증착 미세 패터닝 기술' 개발
실리콘을 대체할 이차원 반도체 연구가 발전하면서 증착, 패터닝, 식각 등의 복잡한 과정이 필요한 기존 반도체 공정과 달리, 원하는 영역만 선택적으로 증착하는 기술이 주목받고 있다. KAIST는 신소재공학과 강기범 교수팀이 고려대 김용주 교수팀과 공동연구로 이차원 반도체의 수평성장 성질을 이용해 쉽고 간편한 10나노미터 이하 미세 패터닝 기술을 개발했다고 28일 밝혔다. 강 교수팀은 차세대 반도체 물질로 주목받는 이차원 전이금속 ‘칼코겐’의 독특한 결정학적 특징을 패터닝 기술에 접목했다. 이차원 물질... [이재형]